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  我国光刻机商场以年均15%复合增加率狂奔，2025年规划估计达250亿元，2030年或冲击500亿大关。

  国产代替窗口期：高端光刻机进口依赖度超90%，但中低端商场国产化率已提升至50%以上，方针驱动下（如《我国制作2025》），国产设备浸透率将继续攀升。

  EUV成制高点：荷兰ASML独占全球EUV商场，但我国正加快光源、光学体系等中心环节攻关，上海微电子的28nm DUV光刻机已量产，国产EUV原型机研制提上日程。

  产业链协同包围：从光源、光学器材到操控办理体系，国内企业正以“蚂蚁雄兵”战术分食全球供应链。例如，福晶科技的光学晶体、茂莱光学的精细镜头已打入ASML供应链。

  中心亮点：绑定国家战略，上海微电子的28nm DUV光刻机已商用，下一代技能瞄准14nm。

  战略定位：以资金和制作才能为上海微电子供给产业链协同，主攻光刻机机械结构件。

  增加潜力：随EUV遍及，高端晶体需求迸发，未来3年利润CAGR或达25%。

  商场位置：国内仅有能供给28nm制程整理洗刷设备的企业，客户包含台积电、中芯世界。

  增加驱动：半导体扩产潮下，设备需求激增，未来3年订单CAGR或达50%。

  技能优势：光刻机温度操控精度达±0.01℃，国产代替率缺乏10%，生长空间巨大。

  赛微电子（MEMS透镜）：全球唯二能量产光刻机微透镜的企业，技能独步亚洲。

  炬光科技（光场匀化器）：EUV光刻机中心元件，国内仅有供货商，毛利率超60%。

  国产代替加快：方针补助+技能打破，中低端商场国产化率或超70%，高端商场逐渐破冰。

  技能联盟兴起：如上海微电子+上海电气的“整机联盟”，福晶+茂莱的“光学联盟”，协同对立ASML独占。

  细分赛道迸发：光学器材、洁净设备等环节技能门槛高、国产化率低，头部企业将享用超量收益。

  这场战争的结局，或将由那些在详尽区分范畴死磕技能的“隐形冠军”们一起书写。而咱们要做的，便是找到这些“蚂蚁雄兵”，等候他们生长为“大象”。

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